KULIT AWET MUDA INI RAHASIANYA

MELAPISI DAN MENUTRISI KULIT DENGAN 3 STEPS HYALURONIC LAYERING

Hyaluronic acid (HA) adalah kandungan alami yang terdapat pada tubuh manusia yang berfungsi untuk memberikan dan mempertahankan kelembaban serta kekenyalan kulit juga sebagai pelumas untuk sendi-sendi dan jaringan jaringan pada tubuh manusia. Seiring bertambahnya usia tubuh akan semakin lambat memproduksi HA sehingga muncullah keluhan pada kulit luar seperti kering, kusam, kendur dan berkeriput.

Mengapa harus tiga tahap dengan molekul yang berbeda?

Saat kulit mengalami kekeringan dan proses penuaan artinya kulit tersebut mengalami kekurangan HA disetiap lapisannya, oleh sebab itu perlu dilakukan rejuvenation dengan produk yang mengandung HA di setiap kulit dan harus dilindungi dilpisan terluarnya.

Serum sebagai langkah pertama molekul HA yang sangat kecil sehingga dapat masuk kedalam lapisan kulit yang dalam. Kombinasi aplikasi revive dengan menggunakan alat semprot oksigen bertekanan tinggi akan menghasilkan perubahan nyata dan kondisi kuit yang menakjubkan dalam satu kali treatment. Kulit menjadi lembab, kenyal dan lebih bersinar.

Langah kedua adalah dengan mengaplikasikan replenish yaitu produk dengan molekul HA yang berukuran sedang, produk ini akan menyerap masuk kelapisan yang superfisial dan mengunci serum yang sudah diaplikasikan sebelumnya. Replenish akan menjaga kelembaban dan memperbaiki masalah kerutan dan garis garis halus pada kulit.

Langkah ketiga adalah dengan mengaplikasikan protect yang memiliki berat molekul HA paling besar, yang mampu melembabkan dan melindungi permukaan kulit bagian luar, melindungi dari polusi, efek buruk dari radiasi matahari, radikal bebas dan lain lain.

Selain keunggulan tersebut treatment ini juga sangat cocok untuk anda yang mempunyai acara karena akan sangat membantu mempercantik make-up anda. Oleh karena itu jika menginginkan kulit lebih lembab dan terlihat sehat silahkan datang ke klinik kami E3A (Emily Aesthetic & Anti Aging) di Jl. Camar Blok CC No. 15 Cipinang Indah II.